但这颗明珠却长期为荷兰阿斯麦(ASML)公司所垄断，由于稀缺，一台光刻机的售价可卖到数千万美元甚至过亿美元。对于5nm、7nm等高端芯片制造工艺，没人可以绕开ASML进行生产。
近日，在第三届上海进出口商品交易会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波在接受采访时透露，这些年来，他们已经为中国的半导体客户积累了700多台装机。第一台光刻机于1988年进入中国，距今已有32年。
根据ASML的财务报告，在今年第二季度和第三季度，该公司向国内地区销售的光刻机占全球销量的20%。目前，ASML已在中国设有12个办事处，11个仓储和物流中心，2个开发中心和1个培训中心，共有1000多名员工。
国产光刻机的缺失，不仅意味着每年中国企业要付出巨大代价去采购外国产品，更代表了半导体工业已经将自己的“命脉”拱手让人。
那么中国为什么造不出自己的光刻机？中国的高端半导体设备究竟差在哪里?
前瞻产业研究院发布的《2020年中国半导体设备行业市场研究报告》指出，光刻机发展至今，已经历了5代产品的迭代，目前第五代EUV光刻机是未来光刻机技术发展的主要方向，目前ASML是全世界唯一一家能够设计和制造EUV设备的厂商。
从中国市场来看，上海微电子装备有限公司(SMEE)是我国国内唯一能够做光刻机的企业，其已经量产的光刻机中，性能最好的能够达到90nm的制程工艺。
但值得一提的是，在光刻机产业的上下游，不乏国产企业的身影。
尽管我国光刻机的发展与国际领先水平有着不小差距，但在半导体设备的其它细分领域已有了较大进展。
从国内市场来看，刻蚀机是我国最具优势的半导体设备领域，也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。目前我国主流设备中，去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。
那么目前国内半导体行业的国产替代化究竟发展到了什么程度?
据前瞻产业研究员分析，国产半导体设备已经形成系列化布局，以北方华创等为代表的龙头公司正在加紧布局设备国产替代。
目前国内半导体设备企业在刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光学测量、研磨抛光、清洗设备等主要设备均有布局，客户的接受度也不断增强，包括中微半导体的介质刻蚀机、北方华创的硅刻蚀机、PCV设备，上海盛美的清洗设备等国产12英寸设备已经在生产线上实现批量应用。另外，一部分应用于14nm的国产设备也开始进入生产线步入验证。
半导体设备行业是半导体芯片制造的基石，半导体不仅与信息安全的发展进程息息相关，其价值链更具有放大效应。根据国际货币基金组织测算，每1美元半导体芯片的产值可带动相关电子信息产业10美元产值，并带来100美元的GDP。
