化学发光也就是化学法刚分析法，分子发光光谱分析法中的一类，它主要是依据化学检测体系中待测物浓度与体系的化学发光强度在一定条件下呈线性定量关系的原理，利用仪器对体系化学发光强度的检测，而确定待测物含量的一种痕量分析方法。化学发光与其它发光分析的本质区别是体系产**光 ( 光辐射 ) 所吸收的能量来源不同。体系产生化学发光，必须具有一个产生可检信号的光辐射反应和一个可一次提供导致发光现象足够能量的单独反应步骤的化学反应。
化学发光有哪些应用？
化学发光Western杂交检测，是同位素检测的一种高度灵敏的替代方法。酶标记抗体取代了放射性标记抗体， 当它作用于底物时，可产生光信号。多数特异抗原检测方法以辣根过氧化物酶(HRP)或碱性磷酸酶(AP)二级抗体耦联物为基础。信号可通过感光胶片或专用的成像设备来采集。化学发光底物用于印迹技术已有十几年的历史，目前大部分实验室做转印时都会采用化学发光技术进行检测。
随着冷CCD化学发光检测技术的发展，现在越来越多的实验室都开始采用冷CCD的凝胶成像系统进行化学发光的检测，胶片成像虽然比自然发光法灵敏度更高，但也有很多缺点：耗时，需要暗房，显影剂和胶片，胶片较贵且为需持续购买的消耗品。同时由于胶片的线性范围较窄，因此用胶片上的条带(特别是表达量较低的条带)进行定量几乎不可能。冷CCD技术与X胶片相比具有瞬时影像处理、高灵敏度和高分辨率、动力范围广等优点，因此能对条带进行**定量。当然这项技术要求底物能产生高强度长持续时间的信号，以保证信号能被冷CCD的凝胶成像系统捕获。在这方面多家公司都提供了相应的化学发光底物或试剂盒，化学发光成像系统，底物可产生高强度的持续光信号24小时，因此用户可以进行多次曝光，zui低可检测至10-19mol，能得到得到高质量的印记信号。
