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品牌： |
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所在地： |
国内 北京 |
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供货总量： |
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有效期至： |
长期有效 |
详情介绍
用途：HemiView数字植物冠层分析系统通过处理影像数据文件来获取与冠层结构有关的，例如叶面积指数、光照间隙及间隙分布状况。通过分析辐射数据的相关信息，能够测算出冠层截获的PAR以及冠层下方的辐射水平。其软件可以计算辐射指标、冠层指标、测量地点的光线覆盖状况及直射与漫射光的分布等。
原理：使用180度鱼眼镜头和高清晰度数码相机从植物冠层下方或森林地面向上取像, 再将数码相机的高清晰度影像载入软件，进行分析处理。
技术规格：
| 图像文件类型 | BMP、JPEG、TIF、Photo CD |
| 图像分辨率 | 最小512×512，最大4368×2912（和数码相机有关） |
| 镜头变形 | 能指定多种相关天顶角和光线距离 |
| 直射光模型 | 简单的空气传递，由用户设置 |
| 散射光模型 | 统一或标准阴天 |
| 数据输出 | Excel兼容表格格式 |
| 总像素 | 1510万像素 |
| 最大支持图片分辨率 | 4368×2912像素 |
| 鱼眼透镜视角 | 180° |
| 存储容量 | 2GB，可扩展 |
| 可伸缩单臂支架高度 | 0.69~1.66米 |
| 三脚架高度 | 最高1.73米 |
| 操作温度 | +5~+55℃ |
输出参数：
·天空几何：质心，立体角和像素计算用于每个天空扇区；
·间隙粒级：比例的可见天空扇区；
·叶面积指数：天空扇区或全部数值；
·太阳辐射：直射和散射，冠层上方和下方，能量或质量单位；
·位置因数：直接，间接（散射），全部；
·时间序列和Sunflecks：可查看指定日期的日盘（半阴影作用）和太阳辐射，用户自定义的采样间隔时间或sunfleck顺序
·可选余弦修正：可用任何方位的截取表面；
·全部数值：大部分输出能将天空扇区表格化，集合到单个全天空或年数值中。
特点：
·交互式图示定位工具：精准记录的图像半球纵坐标系统。补偿磁场偏差；
·支持图像分类：强度区分界限和干扰像素。图像按照实时更新分类；
·图像可多重和拆分查看：分类和色彩/灰色等比率查看，或将整幅图像拆分开浏览；
·图像底片：图像可转换为底片模式进行查看和分析；
·可给不同的天空区域定义号码：天顶角和方位角定义范围；
·单个树的叶面积：直接可通过HemiView输出单个树的LAI；
·分析局部图像：可以将图像中不需要参与分析的部分排除；
·地点，镜头和太阳模型的参数：用户可设定地点，镜头和太阳模式应用到任何一个图像中，方便从列表中选择；
·定义镜头的特点：镜头方程是当用户使用了当前镜头和老款类型提供的ΔT；
·输出：分析结果可输出为Excel兼容表格格式或文本格式；
·自定义输出参数：用户可根据不同的图像定义不同的输出参数。
时间序列计算光照示例图
产地：英国
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