论文最后作者费德里科·卡帕索教授（Federico Capasso）表示：“这项研究为所谓的手机晶圆级摄像头铺平了道路，其中CMOS芯片和超透镜传感器可以直接堆叠在一起，并且易于实现光学对准，因为它们都为扁平。将来，同一家公司可以同时生产芯片和透镜，因为两者可以采用相同的技术制造：光刻。”
论文第一作者、约翰·保尔森工程与应用科学学院博士后박준서（音译朴俊书）指出：“以前，我们无法大规模生产可见光谱的厘米级超透镜传感器，因为我们要么采用费时的电子束光刻技术，要么采用不具备所需分辨率的L-Line光学步进光刻技术。”
超透镜平面主要通过纳米结构聚焦光线，而它有望彻底改变从显微镜到照相机，再到传感器和显示器的一切。但到目前为止，大多数透镜都能做到闪光片般的大小。尽管这种尺寸已经能够在特定应用中实现出色的效果，但在弱光等透镜需要大于瞳孔的条件下，我们需要更大的透镜，比如说虚拟现实应用。
超透镜的纳米柱
为了批量制造厘米级的超透镜，研究人员使用了一种名为深紫外线（Deep-Ultraviolet；DUV）投影光刻技术。DUV通常用在要求细致图案化的PC和手机芯片。利用这种技术，每枚芯片可以产生大量的超透镜，而每个超透镜都由数百万个纳米级元件组成，只需进行一次曝光即可。
通过将纳米结构图案直接蚀刻到玻璃表面，研究人员消除了原来超透镜传感器所需的耗时沉积过程。
这是第一种可量产的全玻璃、厘米级全光谱超透镜。
然而，这种透镜目前存在色差，亦即所有不同颜色的光线不会聚焦在同一点上，但研究人员正在积极地探索大直径的消无色差超透镜。
关于超透镜
超透镜在电磁场的近场（near field）的图象探测有天生的优势。 传统的光路分析也揭示了许多负折射率物质的非常规光学特性。
